减小字体
增大字体- ·上一篇工程信息：池州市文化和旅游局安徽池州市民文化中心工程
- ·下一篇工程信息：(北京)中冶京诚工程技术有限公司中冶京诚科技园工程
北京市大兴区中科九微半导体真空核心设备研发生产基地工程(研发生产楼)
北京市大兴区中科九微半导体真空核心设备研发生产基地工程(研发生产楼)北京市大兴区中科九微半导体真空核心设备研发生产基地工程(研发生产楼)工程地址：北京市大兴区河西区X61M4地块项目阶段：开工在建工程投资：5000(万元)项目描述：该工程计划新建一栋五层研发生产楼,1层地下室,总的建筑面积27879平方米. 主体为 框架结构。 截至2021年3月中旬,目前主体施工单位已进场做施工前准备,预计2021年12月完工. 主要设备材料： 1、光源灯具，低压电器，变配电，仪